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嘉科環(huán)保設備致力于工業(yè)粉塵、廢氣處理系統設計、制造、安裝于一體！

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少量未處理的灰塵微?；蛘邭怏w分子可能?chē)乐赜绊懸恍┕に嚵鞒?。請想象一下污染的空氣對半導體這種高度敏感的制造工藝流程可能產(chǎn)生什么樣的危害。


    在半導體生產(chǎn)中，前沿的生產(chǎn)技術(shù)需要潔凈度很高的空氣，而且這一潔凈度要求還在不斷提高。通常要求晶圓生產(chǎn)環(huán)境的灰塵粒徑要小于25nm（2009年），目前這一粒徑值還在減小，預計到2017年將減小到10nm。氣載分子污染物（AMC）也是高級晶圓廠(chǎng)關(guān)注的問(wèn)題。很多氣載分子污染物（AMC）都被證實(shí)會(huì )影響產(chǎn)品良率。例如，酸性氣體會(huì )腐蝕硬盤(pán)或晶圓，可凝性有機物的沉降和低濃度氨氣的存在會(huì )影響生產(chǎn)操作。


    潔凈室的重心就是空氣過(guò)濾設備，根據不同的潔凈室類(lèi)型，需要考慮使用不同的過(guò)濾設備。


    憑借15年以上的微電子和半導體污染控制技術(shù)行業(yè)經(jīng)驗以，嘉科能夠提供合理的潔凈空氣解決方案。使以下工藝得到保護:


    晶圓及半導體


    微電子工藝設備


    硬盤(pán)驅動(dòng)


    印刷電路板


    平板顯示


    太陽(yáng)能面板

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